EDWARDS展示世界领先的真空设备和尾气处理系统

作者:杨霞 发布时间:2014-03-28
全球领先的真空设备和尾气处理系统制造商及相应增值服务供应商Edwards公司在2014年SEMICON® China展会上,以最小的环境影响和最低的运营成本为主题,展示一系列高性能真空泵,包括最近推出的STP-iXA4506大容量(large-capacity)涡轮分子泵。

全球领先的真空设备和尾气处理系统制造商及相应增值服务供应商Edwards公司在2014年SEMICON® China展会上,以最小的环境影响和最低的运营成本为主题,展示一系列高性能真空泵,包括最近推出的STP-iXA4506大容量(large-capacity)涡轮分子泵(turbomolecular pump,TMP)。

据埃地沃兹(Edwards)贸易(上海)有限公司总经理许坚先生介绍,Edwards在中国的主要目标就是按照客户的特定要求来提供定制的真空解决方案和增值服务,以便帮助他们应对在先进工艺和设备制造中遇到的挑战。Edwards能够在需要尾气处理的场合提供“交钥匙”系统方案。例如新型STP-iXA4506大容量(large-capacity)涡轮分子泵(turbomolecular pump,TMP),该新发布的产品经专门设计为成本敏感的半导体、FPD、LED和太阳能电池板制造商节省投资。STP-iXA4506具有高速度(4300 l/s N2)和高排气量(高达4300 sccm N2),并且结合了高效抽吸轻、重气体的能力,因而成为广泛的大容量、高流量应用的理想选择,这些应用包括半导体蚀刻、LCD蚀刻、玻璃镀膜、太阳能物理气相沉积(physical-vapour deposition,PVD)和PVD镀膜。其它产品包括iH600、iXM1200 / 1800、STP iXA3306和 iXH645H:

iH600干泵为PECVD和LPCVD等复杂困难工艺提供了高可靠性,这些工艺存在着粉尘颗粒、易冷凝和腐蚀性副产品。iXM1200 / iXM1800是Edwards公司首次在中国展出的优化节能型设备,具有超低功率输入。它还具有同类最佳的粉体处理和耐腐蚀性,达到最高可靠性并延长泵的使用寿命。STP-iXA3306磁浮式涡轮分子泵带有完全集成的板载控制器,无需泵和控制单元之间使用连接电缆。它还消除了安装空间和成本,上述附件是传统分体式(rack-type)控制单元所需要的。iXH645H干泵已针对MOCVD工艺进行了优化,该工艺用于LED制造和其它形式的化合物半导体生产。iXH泵的先进技术可使维护需求最小化并使泵的运行时间最大化,帮助降低运营成本。

Edwards的真空和尾气处理系统缓解了一系列环境威胁,例如半导体生产工艺中产生的酸性和腐蚀性气体,Edwards可帮助用户实现碳排放为负值(carbon-negative)。Edwards通过一系列创新但已经过验证的泵和系统来提供高能效解决方案,所有这些方案都仅需要相对较低的资本投入和维护成本。

为了进一步贴近中国本土客户,许总透露,Edwards正在青岛建设一个世界级的制造中心,该中心已于2013年破土动工,预计于今年第四季度竣工。总占地面积为57亩左右,工厂面积为3万多平方米。中国的工艺正朝世界级的水准迈进,所以未来青岛会成为某些泵的全球研发中心。此外,许总认为,中国的半导体行业继续表现出强劲增长,尤其是受到国内生产的推动。中国的战略目标包括新能源和环境的可持续性,因此,太阳能光伏(PV)、FPD和化合物半导体等都属于中国非常具有竞争力的广泛工业领域。Edwards公司的真空和尾气处理系统是满足这个巨大市场供应链的绝对核心。Edwards不仅在技术方面加强实力,而且在服务方面也转换思路,以前都是从泵的损坏开始进行,现在对于泵的维护和使用以及工艺效率的改进,从客户项目实施开始就已经介入,并且通过软件实时监控设备的使用情况,预测其使用寿命,做到未雨绸缪。以成为和客户真正紧密相连的合作伙伴为己任,相信Edwards必定在中国2013年6000万销售额的基础上实现新的突破。

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