定制化的真空方案

作者:杨霞 发布时间:2014-05-14

Edwards希望按照中国客户的特定要求来提供定制的真空解决方案和增值服务,以便帮助他们应对在先进工艺和设备制造中遇到的挑战。

全球领先的真空设备和尾气处理系统制造商及相应增值服务供应商Edwards公司在2014年SEMICON China展会上,以最小的环境影响和最低的运营成本为主题,展示了一系列高性能真空泵,包括新近推出的STP-iXA4506大容量涡轮分子泵。


图1 埃地沃兹(Edwards)贸易(上海)有限公司总经理许坚

埃地沃兹(Edwards)贸易(上海)有限公司总经理许坚在接受记者采访时表示,Edwards希望按照中国客户的特定要求来提供定制的真空解决方案和增值服务,以便帮助他们应对在先进工艺和设备制造中遇到的挑战。Edwards能够在需要尾气处理的场合提供“交钥匙”系统方案。例如新型STP-iXA4506大容量涡轮分子泵,该新发布的产品经专门设计为成本敏感的半导体、FPD、LED和太阳能电池板制造商节省投资。STP-iXA4506具有高速度(4300L/s N2)和高排气量(高达4300 sccm N2),并且结合了高效抽吸轻、重气体的能力,因而成为广泛的大容量、高流量应用的理想选择,这些应用包括半导体蚀刻、LCD蚀刻、玻璃镀膜、太阳能物理气相沉积和PVD镀膜。其他产品包括iH600、iXM1200/1800、STP iXA3306和iXH645H。

iH600干泵为PECVD和LPCVD等复杂困难工艺提供了高可靠性,这些工艺存在着粉尘颗粒、易冷凝和腐蚀性副产品。iXM1200/iXM1800是Edwards公司首次在中国展出的优化节能型设备,具有超低功率输入,同时具有同类最佳的粉体处理能力和耐腐蚀性,达到最高可靠性并延长泵的使用寿命。STP-iXA3306磁浮式涡轮分子泵带有完全集成的板载控制器,无需泵和控制单元之间使用连接电缆。iXH645H干泵已针对MOCVD工艺进行了优化,该工艺用于LED制造和其他形式的化合物半导体生产。


图2 埃地沃兹(Edwards)最近推出的STP-iXA4506大容量涡轮分子泵

Edwards的真空和尾气处理系统缓解了一系列环境威胁,例如半导体生产工艺中产生的酸性和腐蚀性气体,Edwards可帮助用户实现碳排放为负值。Edwards通过一系列创新但已经过验证的泵和系统来提供高能效解决方案,所有这些方案都仅需要相对较低的资本投入和维护成本。

为了进一步贴近中国本土客户,许坚透露,Edwards正在青岛建设一个世界级的制造中心,该中心已于2013年破土动工,预计于2014年第四季度竣工。制造中心总占地面积为57亩左右,工厂面积为3万多平方米。青岛制造中心不但具备生产能力,而且还将成为Edwards全球重要的研发中心之一。

许坚认为,中国的半导体制造行业将继续表现出强劲增长。新能源和环境的可持续性已经成为中国工业转型升级的重点,因此,太阳能光伏(PV)、FPD和化合物半导体等都将在未来具有良好的发展前景。许坚表示,Edwards公司的真空和尾气处理系统将帮助半导体行业实现更加高效和稳定的生产。“我们不仅为用户提供最优质的产品,而且我们也在着力为客户提供全生命周期的服务方案,从客户项目的实施阶段,我们就开始帮助客户进行工艺的分析提升工艺效率,在工厂运营阶段,客户可以通过我们的软件实时监控设备的使用情况,实现预防性的维护。我们希望成为客户最紧密的合作伙伴。”

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