折叠光程TDL克服应用局限

作者:高平 文章来源:梅特勒-托利多公司过程分析部门 发布时间:2014-07-10

在化工、石化和炼油企业中,可调谐二极管激光分析仪(TDL)正日益普及。它高度可靠,维护工作量小,使其成为用户首选的气体分析技术。然而,在某些过程中,安装位置和工况条件限制了它们的应用范围。拥有一系列独有安装方式的折叠光程TDL可以完成过去无法实现的测量。

近年来,TDL分析仪迅速兴起,成为目前气体分析领域的核心测量技术。TDL可以直接安装在过程中,无需昂贵且维护量大的预处理系统,能够获得快速响应。TDL成为在线、动态气体测量的理想之选。虽然TDL技术发展速度非常快,但是TDL在原位对穿式过程连接方式方面没有太大的突破。

在过程管道或容器上直接安装对穿式激光TDL带来了一些安装和操作方面的挑战和局限性,需要在选择前慎重考虑。

TDL技术使用的局限

安装点和装置尺寸的选择

在考虑对穿式管道安装TDL时,首先考虑的是安装位置。做出决定时,必须考虑在能够获得最具代表性测量数据的安装位置进行测量。然而,如果空间限制或者过程管道的直径较小,就会给安装过程带来挑战。

光学限制意味着,激光发射器与接受器需要对焦管道,以提供所需的焦点距离。这些管道不但把安装和测量局限在较大管道上,而且,由于内部空间较大,还会影响对焦的稳定性,并提高维持分析仪光学元件清洁所需要的吹扫气体消耗量。

光学对焦

即使空间限制不是问题,管道两侧的发射器和接收器装置对焦始终是一个问题。如图1所示,对穿式TDL需要认真对焦,这意味着配套法兰必须在安装之前焊接到管道上,从而增加了过程的成本和复杂性。

为了帮助发射器和接收器装置的对焦,可以使用各种对焦机械装置,从简单、大型、压缩O 型圈到复杂的弹性金属密封设计。必须保证完全对焦;并且,在对焦过程中,需要确认过程管道的完整性,避免对焦过程产生泄漏缝隙,造成过程气体泄漏。

物理质量

安装对穿式TDL非常重要的一个问题是它的尺寸。首先,由于发射器和接收器主体再加上对焦管道(图2)的重量,对焦机械装置会随着时间的推移而下垂,光学对焦效果随之降低。此外,如果容器内壁较薄,就必须添加支架以使其更稳定(图3)。

即使这些因素都得到了彻底解决,如果过程温度变化很大,还是可能会影响对焦,例如,在开车或者有显著升温的过程中。过程容器升温造成内壁弯曲,这种弯曲虽然不明显,但可能导致激光器在过程运行时逐渐与接收器错位,迫使需要重新对焦,这不仅需要额外的费用,而且耗费大量的时间。

为了解决这个问题,可以更改激光束属性,产生发散的光学传播(图3)。虽然这让一部分信号发射到接收器中,但是接收到的信号强度会有所下降。

吹扫气体

另一个主要问题是需要吹扫气体,吹扫气体可以防止过程气流中的颗粒和/或冷凝物污染光学窗口。

大部分对穿式TDL需要对光学元件吹扫,由于大部分的TDL光学元件直径大,需要使用大量的吹扫气体才能保持光学表面的清洁。一般情况下,每侧需要高达50L/min(1.77ft3/min)。如此高的消耗对成本造成了显著的影响。此外,还需要向过程气流中引入大量的稀释气体,可能会导致下游过程的质量或其他问题。

小管道

对于很多过程来说,如果可以直接在小管道上轻松安装TDL分析仪,那将十分理想。由于尺寸、重量、灵敏度和光学设计的局限性,这对大部分原位TDL来说都是一个挑战。通常的仪器最小安装直径限制在DIN 300(12″)。这个限制意味着必须安装横截面合适的变径管道,这又带来其他的问题(压力下降、流速下降等)或者必须安装旁路装置(图4)。

虽然安装旁路装置的方法可以将对穿式TDL安装在小管道内,但这不是理想的解决方案。首先,这种结构中一侧的光学吹扫方向与过程流动方向相同,而另一侧与过程流动方向相反。这会导致光学路径不稳定,从而导致测量出错。其次,吹扫气体通过旁路时,会对过程气体有明显的稀释作用。不可避免地造成测量结果无法真正代表过程气体。此外,这种方法还有其他缺点,例如较高的光学吹扫气体消耗和过程流量控制问题,特别是因为阀门造成管线中意外的压力下降。

光束转向

当激光束穿过不同温度的气体时,密度和折射率不同,光束会在密度改变的界面发生衍射。使用对穿式TDL分析高温气流时,这个现象肯定会发生,因为通常温度分布不均匀,并且光路两端存在高流速的低温吹扫气体。这种激光衍射被称为“光束转向”,会增加信号噪声。这会影响分析仪的测量稳定性,并可能增加对焦过程的复杂性。

如图5所示,过程管道两侧的激光器和接收器已预先对焦(虚线)。当高温过程气体流动时,由于存在不同的折射率,激光束将被衍射,部分光束还可能被反射。这不仅会造成接收器接收到光束的能量损失,而且非常重要的是,激光能量将通过不同光路到达接收器,一些激光甚至可能完全错过接收器。这会使接收器端的激光束和信号的噪声随机波动。此外,多路径信号会进一步增加信号噪声,并造成测量不稳定。因此,除了向测量位置供应吹扫气体需要成本,而且吹扫消耗较高外,在某些情况下,吹扫气体可能会导致接收信号变弱。

一般来说,光束转向会因为过程中温度和压力的升高,以及穿过高温气流的光学路径的增长而加剧。即使没有低温吹扫气体,光束转向也会导致测量质量的显著下降。在许多情况下,长光学路径的优势会被光束转向引入的信号噪声抵消。因此,光学路径应根据过程条件谨慎选择。

如上所述,在计划使用对穿式TDL分析仪时,必须明白,它在安装方面具有很大的局限性。能否解决这些局限性?从而使过程或工厂设施不再迎合分析仪,而是使分析仪去适应工厂。

分析仪如何更具适应性

如何克服上述局限性?一般来说,减轻TDL的重量对解决对焦稳定性和紧凑空间有很大帮助。可以使用一些重量较轻的对穿式分析仪,但它们仍然需要对焦,如果光学元件和光束直径也有所减少,这可能变得更加困难。此外,还需要在管道两侧安装相对法兰,并需要大量的吹扫气体。

提到TDL时,人们通常认为它们一定是对穿式装置。但并非如此,因为还有其他选择。对于大多数过程应用来说,折叠光程TDL(来自传感器头部的激光束被反射回同在传感器头部的接收器中)具有很多优势:

发射器和接收器在同一装置中,而且无需昂贵的连接电缆;

通常采用单法兰安装;

无需管道或容器两侧的对焦;

大大降低吹扫气体消耗量;

尺寸小,易于安装在狭小空间内;

更高的准确性(因为激光束穿过气体两次);

设计轻巧,消除了对法兰和密封件的压力。

折叠光程TDL(图6)解决了对穿式分析仪的诸多问题。它们所提供的优势大大扩展了测量的范围,克服了以前难以或无法克服的问题。这样的TDL仍然需要吹扫气体来保护光学元件,但是,由于原位探头直径和内部体积较小,吹扫的要求大大降低。对于含有颗粒或冷凝物的气流,仍将需要吹扫,但并非所有过程都需要吹扫。

TDL监测顶部空间

当使用TDL进行顶空监测时,吹扫是关键。这是因为吹扫气体将占据TDL的光路(图7),由于气体是静止的,顶部空间只有微小的循环或流动无法取代吹扫气体。这是很危险的情况,因为这会产生非安全状态;分析仪将始终显示错误的低测量值。因此,为了进行安全有效地测量,就不可能使用吹扫气体。许多顶空和惰化应用不含颗粒,因此,可以不使用吹扫气体。但是,对于对穿式分析仪来说,仍然需要两部分。这样就需要采用旁路或取样式测量系统。

一个更好的解决方法是,使用无需吹扫并且可以通过单个法兰与顶部空间相连的折叠光程TDL。设备光学窗口之间的距离精确确定了光学路径,并且,因为激光束两次穿过气体,可以利用紧凑型探头获得良好的灵敏度。由于无需吹扫气体,光路中的所有气体将具有相同的温度和密度,因此,不会产生光束转向。这可大大改善信号的稳定性和灵敏度。

高温、多尘应用

应用TDL的另一个问题是高温、多尘过程。如果吹扫气体进入过程气体不会引起问题,那么可以用来保护对穿式或折叠光程TDL中的光学元件。但是,低温吹扫气体和高温过程气体混合会产生光束转向。理想的解决方案是尽量取消吹扫的需要(还可简化安装并降低运行成本)。然而,取消吹扫意味着需要用另一种形式来保护光学窗口。这里可以使用具有金属烧结过滤器和挡板的非吹扫折叠光程TDL(图8)。

小管径管道上的应用

在过去,不允许TDL直接安装在小管径管道。即使折叠光程分析仪通常将管道直径限制为最小4″(DIN 100),对穿式分析仪也需要复杂昂贵的旁路装置。创新的在线过程连接方式——法兰式(图9)链接,提供了解决方案。

这一独有的过程连接方式可使TDL安装于直径小至2″(DIN 50)的管道上,不会妨碍过程气流,具有适应高速气流(>25m/s)和抗振的额外优势。

取样式测量系统的过程连接方式

有时,已经有了可用的样品预处理系统,之前用于顺磁或NDIR分析仪,现在想要用于TDL安装。这很有吸引力,原因有很多,它可进行简单的校准/验证(过程可能会具有大量的冷凝物或颗粒)。此时,使用样品预处理系统成为最合适的解决方案。

过去在上述情况下添加TDL分析仪意味着需要安装特定型号,专用的取样式TDL;或者使用可以连接对穿式发射器和接收器的样品池。但这意味着需要一个大的仪表板来安装样品池和分析仪硬件,在墙面空间有限的情况下,这很难实现。另一种情况是计划在安装原位分析仪前,对折叠光程TDL的性能进行测试。

此时,梅特勒-托利多提供的分析设备可以轻松地与取样式或原位式探头连接,无论是吹扫、非吹扫探头,还是在线法兰式。

取样式探头(图10)直接连接至TDL分析仪,组成稳定、固定的预对焦测量池。分析仪既可以做为取样式分析仪连续运行,也可以根据需求更换合适的过程探头,成为原位的分析设备。

结论

虽然TDL具有很多优势,但是由于传统的对穿式原位TDL的过程连接具有局限性,这些优势在实际操作中并不总是存在。这些局限性对TDL应用场合的测量稳定性和完整性带来负面影响,同时这些局限性问题推动了一系列折叠光程TDL创新过程连接方案的开发。

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